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晶化快速退火炉 嘉仪通 半导体退火设备
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福禄克 9117 退火炉
。当您拥有了这些设备之后,如何使它们保持良好性能就成了您工作的一部分。您可以通过一台哈特 9117 型退火炉来达到此目的。标准铂电阻温度计不仅是ITS-90温标内插仪器,也是各个温度检定实验室的标准
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半导体晶圆微操作、检验设备
视觉软件。可以根据客户不同的需求,实现对半导体晶圆进行装夹、对位、转印、清洁、检验等功能。半导体晶圆微操作、检验设备特点:系统包含完整的装夹和对位结构,可以根据客户实际需求定制控制系统和机器视觉系
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真空快速退火炉 半导体RTP\RTA\RTN设备
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高压氧气氛退火炉
/physrevmaterials.4.084409)。在该项研究中,作者使用的高压退火装置即为德国SciDre公司推出的高压氧气氛退火炉,该设备可实现1100°C高温,160bar高压,也可根据用户
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超高温高速退火炉
这款桌面式超高温高速退火炉以大功率点聚焦加热以及超高反射效率可以在10s内将15mm×15mm的试样加热到1800℃,对SiC以及其它高熔点材料进行退火处理。
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快速退火炉
); 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN); 硅化 (Silicidation); 扩散 (Diffusion); 化合物半导体退火
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快速退火炉
AS-One系统有两种型号: AS-One 100 系统或AS-One 150 系统该快速退火炉是专门为满足大学、研究实验室和小规模生产的需求而研制的,高可靠且性价比高。该工艺室采用贝壳式设计,可
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RTP快速退火炉-真空快速退火炉-螣芯品牌
、氮化物生长 硅化物合金退火 砷化镓工艺 欧姆接触快速合金 氧化回流 其他快速热处理工艺二、技术规格RTP-RL150产品尺寸6 寸晶圆或者支持 150×150mm产品腔体材质镀金铝制腔体温度范围室温
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快速退火炉 RTP
, Dry pump) -过程控制: 手动 主要特点: 该响应快速、高效快速退火,可以在很短时间内快速升温1000摄氏度,且在材料表面退火温度均匀;方便移动设计,温度控制方便,价格低廉。
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